본 발명의 일 실시 예는 빠른 공정 속도 및 자유로운 나노 리소그래피 구현을 위해, 상변화를 통한 광특성변화를 이용하고, 하나의 빔이 아닌 다중 병렬 광 프로브를 기반으로 근접장 효과를 이용함으로써, 대면적 패터닝이 가능하도록 하는 리소그래피 기술을 제공하는 기술을 제공한다. 본 발명의 실시 예에 따른 레이저빔을 조사하는 레이저; 레이저빔을 전달받아 레이저빔을 초점으로 집중시키는 광학부; 및 복수의 나노조리개를 구비하는 조리개부를 포함하고, 레이저빔이 상기 조리개부의 복수의 나노조리개 각각을 순차적으로 통과하도록 하는 PCM기판부;를 포함한다.