제목

기판 처리 장치 및 이를 포함하는 반도체 제조 설비

출원인

세메스 주식회사, 연세대학교 산학협력단

출원일

2022.12.30

공개일

2024.07.09

게시글 내용

 레이저를 이용하여 반도체 기판을 처리하는 기판 처리 장치 및 이를 포함하는 반도체 제조 설비를 제공한다. 상기 기판 처리 장치는, 기판이 처리되는 공간을 제공하는 챔버; 챔버 내에 배치되며, 기판을 지지하는 지지 모듈; 및 챔버 내에 배치되며, 기판 상으로 레이저 신호를 송출하여 기판을 열처리하는 레이저 신호 생성 모듈을 포함하며, 레이저 신호 생성 모듈은 포토레지스트 레이어를 포함하는 기판을 열처리한다. 

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