- 제목
- 금속촉매를 이용한 화학적 식각 방법
- 출원인
- 세메스 주식회사, 연세대학교 산학협력단
- 출원일
- 2022.12.20
- 공개일
- 2024.06.27
- 게시글 내용
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실리콘 내부에 딥-레벨 불순물이 형성되지 않아 디바이스 성능 저하를 방지하는, 금속촉매를 이용한 화학적 식각 방법이 제공된다. 상기 식각 방법은 실리콘 기판 상에 니켈 실리사이드를 포함하는 금속촉매를 형성하고, 상기 금속촉매에 대한 화학적 식각을 통해서 상기 금속촉매와 접촉한 실리콘 기판을 선택적으로 식각하는 것을 포함한다.
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- 자료출처 : KIPRIS (https://www.kipris.or.kr)
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