- 제목
- 스퍼터링 타겟 및 이를 구비하는 스퍼터링 장치
- 출원인
- 삼성디스플레이 주식회사, 연세대학교 산학협력단
- 출원일
- 2019.09.27
- 공개일
- 2021.04.07
- 게시글 내용
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본 발명은 스퍼터링에 의해 형성된 성막층 내에 접합층 등에 의한 불순물이 포함되는 것을 최소화할 수 있는 스퍼터링 타겟 및 이를 구비하는 스퍼터링 장치를 위하여, 타겟물질층과, 상기 타겟물질층의 일측에 위치하며 플라즈마에 노출될 시 확산될 수 있는 확산물질을 포함하는 접합층을 구비하는, 스퍼터링 타겟 및 이를 구비하는 스퍼터링 장치를 제공한다.
- 첨부
- 공개전문PDF
- 자료출처 : KIPRIS (https://www.kipris.or.kr)
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