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본 명세서의 실시예들은, 포토마스크, 이의 제조방법 및 이를 이용한 표시장치의 제조방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는, 일면에 오목부가 위치하는 기재층과, 오목부를 충진하고 일면이 노출된 패턴층을 포함하며, 오목부의 최대 깊이와 패턴층의 최대 두께가 서로 대응됨으로써, 포토레지스트에 밀착한 상태로 포토레지스트를 노광할 수 있어 파장이 비교적 긴 광원을 사용하여도 미세한 선폭을 가지는 패턴을 형성할 수 있다.
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