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광학 분광 분석 장치가 제공된다. 광학 분광 분석 장치는, 기판에 대해 플라즈마 공정을 처리하는 공정 챔버 내의 광을 측정하는 광 측정부, 상기 광 측정부로부터 수집된 광을 전달받아 플라즈마 상태를 분석하는 광 분석부, 상기 광 분석부의 출력 신호를 전달받아 상기 출력 신호를 처리하는 제어부, 상기 공정 챔버와 상기 광 측정부 사이에 배치되어 상기 광 측정부에 결합되고, 상기 광 측정부로 수집되는 수집광을 제어하는 수광 제어부를 포함한다.
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