- 제목
- 고분자 스캐폴드의 표면 처리 방법
- 출원인
- 연세대학교 산학협력단
- 출원일
- 2010.03.18
- 공개일
- 2011.09.26
- 게시글 내용
-
본 발명은 대기압 플라즈마를 이용하여 고분자 스캐폴드의 표면을 친수성으로 개질시키는 방법 및 이로부터 얻은 친수성 등의 표면활성이 개선된 고분자 스캐폴드에 관한 것으로서, 탄화 수소류 오염을 단시간(수 분)에 효과적으로 제거하고 친수성의 표면을 얻는 것과 동시에 단백질 흡착, 세포 부착 및 증식 등의 특성을 상당히 개선할 수 있다.
- 첨부
- 공개전문PDF
- 자료출처 : KIPRIS (https://www.kipris.or.kr)
- 키워드(검색어)별, 발명자별 특허(기술), 공개특허 한정 검색 가능
- 연구분야별 비공개 특허(기술)은 지식재산권 담당자 별도 문의
- 지식재산권 담당자
- 관련 문의처
보유특허 검색 페이지 및 담당자 정보 안내 특허 출원인 (권리자) 전담부서 연락처 연세대학교 산학협력단 본교 산학협력단 지식재산팀 지식재산팀 양지혜 팀장
(02-2123-5138 / jh.yan@yonsei.ac.kr)연세대학교 원주산학협력단 원주산학협력단 기술경영팀 기술경영팀 오정환 팀장
(033-760-5251 ~ 5252 / WJDGHKSA@yonsei.ac.kr)