본 발명은 기판 상에 나노 입자를 도포하는 제1단계; 및 열처리를 통하여, 상기 나노 입자를 상기 기판 상에 나노 요철로 결합시키는 제2단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 나노 구조물 제작방법을 제공한다. 바람직하게, 상기 나노 입자는 금속 나노 입자이다. 바람직하게, 상기 나노 입자는 직경이 1~100nm이고, 상기 나노 요철은 직경이 10~1000nm이다. 상기 나노 입자는 용매에 혼합되어 용액 상태로 상기 기판 상에 도포될 수 있다. 상기 나노 요철을 마스크로 하여 상기 기판을 식각하고, 상기 나노 요철을 제거하는 제3단계를 포함할 수 있다. 상기 나노 요철이 형성된 상기 기판 위에 타켓 물질을 도포한 후, 상기 나노 요철을 제거하는 리프트-오프 공정을 수행하는 제3단계를 포함할 수 있다. 상기 나노 요철을 마스크로 하여 선택적으로 상기 나노 요철 이외의 상기 기판의 부위에 타켓 물질을 도포하고, 상기 나노 요철을 제거하는 제3단계를 포함할 수 있다. 상기 나노 요철 위에 타겟물질을 선택적으로 도포하는 제3단계를 포함할 수 있다. 또한, 본 발명은, 상기 나노 구조물 제작방법에 의하여 상기 나노 구조물을 제작하는 단계; 및 제작된 상기 나노 구조물을 복제하는 복제단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 나노 패턴 제작방법을 제공한다. 여기서, 상기 복제단계에서는 전주도금, 임프린팅, 사출성형 및 압축성형 중 적어도 하나를 1회 이상 수행할 수 있다.