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기기이용안내

1. 일반적요율 원칙 (2021.3.1시행부터)

일반적요율 원칙
사용료 항목 이용수가 공통사항 및 조건
대량 사용자 할인 300만원/30%D.C 1000만원/50%D.C
  • 월사용료 청구금액기준
서비스의뢰 비용(express) 총 사용요금*2배(24시간 이내)
  • 서비스의뢰시 완료기간( 3~5일/휴일제외)
위험 요소 분담금 야간,휴일 장비사용시 20% 할증료 부과
-직접사용자만 해당
  • 장비조교는 면제
청정 안전교육비 50,000/인당
  • 장비조교는 면제
입실료 200,000/6개월
  • 반납 및 정지요청시 반드시 행정실로 통보, 재출입시 청정안전교육 재이수
  • 청정교육 후 테스트 통과 후
    6개월 내 장비교육 인증을 받아야 함[경과시 재교육]

2. 공정 장비

일반적요율 원칙
구분 연구장비 제작사/모델명 기본 직접 수행 공정 의뢰 공통사항 및 조건
Thin Film Sputter #1 대한민국
(한국진공)
KVS-T8860
기본 30,000/시간당 60,000/회당

* SnO2, Gs2O3, GST, Ge, ZnO, ITO증착 가능

* 파우더 샘플 진행 X

추가 100,000/Shield교체비
(타겟교체시에만 부과)
Sputter # 2 대한민국
(한국진공)
주문제작
기본 30,000/시간당 60,000/회당

*Cr, Cu, Ni, Ta, Pt, Au, Pd, Er증착 가능

*파우더 샘플 진행 X

추가 70,000/재료비(Pt,Au,Pd)/ 매500Å마다
100,000/Shield교체비
(타겟교체요청시에만 부과)
Sputter #3 대한민국
(한국진공)
주문제작
기본 30,000/시간당 60,000/회당 * Ti, W, TiN, Al증착 가능
추가 100,000/Shield교체비
(타겟교체시에만 부과)
CVD ALD 대한민국
(APL)
주문제작
기본(5000Å) X 300,000/회당 + 100,000/매50Å마다 * HfO2, Al2O3증착
* temp(↑1000Å)
PECVD(SiO2, SiNx) 대한민국
(주성)
URECA 2000
기본 X 300,000/회당 + 100,000/매50Å마다 * 슬라이드글라스가능
* temp(↓250°C)
* SiO2증착가능
추가 150,000/low temp -
LPCVD(SiNx) 대한민국
(성진세미텍)
SJF1000-T1
기본(5000Å) X 350,000/lot + 40,000/매1000Å * Batch(25장)
600,000/low stress+300,000/5000마다, 최대 1㎛까지  
LPCVD(Poly) 대한민국
(성진세미텍)
SJF1000LP
기본(5000Å) X 350,000/lot + 40,000/매1000Å  
기본(3000Å) 500,000/a-Si+250,000/매3000Å마다  
LPCVD(NW) 대한민국
(성진세미텍)
SJF1000LP
기본(1000Å) X 150,000/회당 + 100,000/매1000Å * Si, Ge, SiGe NW
추가 200,000/재료비(Ge)/매1000Å마다 -
Diffusion Furnace (Wet) 대한민국
(PST)
Melitas M15VH
기본(6h) X 350,000/회당 * 4" 10장이하 / 6" 15장이하
추가 X 350,000/6h이상 -
Furnace (Dry) 대한민국
(PST)
Melitas M15VH
기본(6hr) X 350,000/회당 * 4" 10장이하 / 6" 15장이하
* 지그제작비 10,000원 별도(4inch)
Plasma Doping System 대한민국
(APTC)
APIS200
기본 50,000/시간당 100,000/회당 * 지그제작비 10,000원 별도
CV-RTP

대한민국

(엘에이티)

LRC-150

기본 40,000/30분당 80,000/회당  
Photo Mask Aligner 독일
(Suss)
MA6
기본 20,000/30분당 40,000/회당 -
Maskless Aligner

프랑스

(Kloe)

Dilase 650

기본 40,000/30분당 80,000/회당 * 신규장비로 조건셋업 시간소요로  50%할인적용(~22.8월까지)
Manual Spin Coater 대한민국(TFT)
TFT-Manual Coater
기본 5,000/30분당 10,000/회당 * 조각(1*1㎠)~6"wf 사용가능
Hot Plate 대한민국
(TFT)
TFT-Hot Plate
기본 5,000/30분당 10,000/회당 -
Etch ICP-RIE

대한민국

(엘에이티)

주문제작

기본 60,000/시간당 120,000/회당 -
Metal Etcher 대한민국
(셀비즈)
SEO200
기본 50,000/시간당 100,000/회당 -
RIE 대한민국(EDD)
E5
기본 50,000/시간당 100,000/회당 * SiO2, SiNx, poly etch증착 가능
Asher 대한민국
(셀비즈)
SEA200
기본 20,000/30분당 40,000/회당 -
Wet Acid Wet Station 대한민국
(두리텍)
Acid wet station
기본(bath) 60,000/2hour 120,000/회당 -
소용량 30,000/시간당 60,000/회당 * Dish, Tray, Beaker사용시
Solvent Wet Station 대한민국
(두리텍)
PR wet station
기본(bath) 60,000/2hour 120,000/회당 -
소용량 30,000/시간당 60,000/회당 * Dish, Tray, Beaker사용시
           
Bio            
Microarray
Scanner System
미국
Genepix 4100A
기본 15,000/시간당 30,000/회당 * 2공학관 312호
           
Plasma System 대한민국
(펨토)
Covance-LF200-M2
기본 10,000/30분당 20,000/회당 -
Parylene Coater 대한민국
(펨토)
DACS-LAB
기본 50,000/시간당 100,000/회당 -

3. 측정 장비

측정 장비 목록
구분 연구장비 모델명 분류 직접 수행 공정 의뢰 공통사항 및 조건
In-Line Monitoring 현미경 1, 2 독일(Leica)
Polycon, Polyvar
기본 상시 입실자는
사용무료
20,000/회당  
Alpha-step 미국(KLA)
P-22H
기본 상시 입실자는
사용무료
20,000/회당  
4 Point Probe 미국(KLA)
RS55/tc
기본 상시 입실자는
사용무료
20,000/회당  
AFM 대한민국
(파크시스템)
XE-100
기본 40,000/
시간당
80,000/회당 * 2공학관 312호
전기적 특성 Probestation 독일(Suss)
MP-5
기본 10,000/
시간당
20,000/회당